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    [机翻] 成分和结构对热CVD沉积BCN涂层力学性能的影响
    [期刊]   S. Stoeckel   K. Weise   D. Dietrich   T. Thamm   M. Braun   R. Cremer   D. Neuschuetz   G. Marx   《Thin Solid Films》    2002年420/421卷Dec.期      共7页
    摘要 : BCN films were deposited by isothermal chemical vapour deposition from gaseous mixtures of trimethylborazine, toluene and ammonia. The films were analysed with respect to chemical state, composition, morphology and microstructure ... 展开

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